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Diário Oficial da União · 11/09/2026 · pág. 47

DOU 11/09/2026 - Diario Oficial da Uniao - Brasil

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TEXTO OFICIAL · ÍNTEGRA

Seção 1

Nº 172, sexta-feira, 11 de setembro de 2026

ISSN 1677-7042

Os critérios para tratamento de não conformidades na etapa de avaliação de manutenção devem seguir os requisitos estabelecidos no RGCP. 6.1.2.4 Confirmação de manutenção

Os critérios de confirmação da manutenção devem seguir os requisitos estabelecidos no RGCP. 6.1.3 Avaliação de Recertificação

6.1.3.1 Os critérios gerais de avaliação de recertificação estão contemplados no RGCP. 6.1.3.2 A avaliação da recertificação deve ser realizada e concluída antes do prazo de validade do certificado de Conformidade. 6.2 Modelo de Certificação 1b 6.2.1 Avaliação Inicial

6.2.1.1 Solicitação de Certificação

O fornecedor deve encaminhar uma solicitação formal ao OCP, fornecendo a documentação descrita no RGCP, além do memorial descritivo, elaborado conforme Anexo A deste R AC .

Os critérios de análise da solicitação e da conformidade da documentação devem seguir os requisitos estabelecidos no RGCP.

Os critérios do plano de ensaios devem seguir o estabelecido no RGCP.

Os ensaios devem seguir o definido no RGCP, segundo o estabelecido no subitem 6.1.1.4.1 deste RAC.

6.2.1.3.2 Definição da Amostragem
6.2.1.3.2.1 A amostragem para os ensaios de lote no Modelo 1b de Certificação o OCP deve seguir o plano de amostragem descrito na Tabela 3, na qual o tamanho da amostra
é uma função do tamanho do lote de certificação.
Tabela 3 - Amostragem para o Modelo 1b
Tamanho
do
lote
de
Ensaio de Esectroscoia Raman
Ensaio de Microscoia de Fora Atômica
Ensaio de Termoravimetria
. .



certificação (kg)
.pp
.p ç
.g

. .Dispersão ou Particulado
.Dispersão ou
Particulado
.Quantidade de amostras para ensaios (frascos)
.Dispersão
.Quantidade de amostras para ensaios (frascos)
.Particulado
.Quantidade
de
amostras
para


ensaios (frascos)

.
~~.<~~ 5 kg
.300 µL
.10 mg .2
.50 µL
.2
.5 mg
.2
6 50 k
300 L
103
50 L
3
5
3
. .a g
.µ
.mg .
.µ
.
.mg
.
k
. .51 a 100 g
.300 µL
.10 mg .4
.50 µL
.4
.5 mg
.4
. .Acima de 100 kg
.300 µL
.10 mg .5
.50 µL
.5
.5 mg
.5
6.2.1.3.2.2 Para este modelo de certificação, o OCP deve estabelecer o procedimento para a coleta das amostras do lote de certificação, de maneira a possibilitar a realização
de todos os ensaios previstos na norma de referência para o modelo 1b, de acordo com seus procedimentos.
6.2.1.3.3 Definição do Laboratório
A definição de laboratório deve seguir o estabelecido no RGCP.
6.2.1.4 Emissão do Certificado de Conformidade
Os critérios para emissão do Certificado de Conformidade devem seguir o estabelecido no RGCP e no subitem 6.1.1.6 deste RAC, exceto pela validade que é
indeterminada.
Õ
7. TRATAMENTO DE RECLAMAÇES
Os critérios para tratamento de reclamações devem seguir os requisitos estabelecidos no RGCP.
8. ATIVIDADES EXECUTADAS POR OCP ACREDITADO POR MEMBRO DO MLA DO IAF
As atividades executadas por OCP acreditado por membro do MLA do IAF devem seguir os requisitos estabelecidos no RGCP.
9. TRANSFERÊNCIA DA CERTIFICAÇÃO
Os critérios para transferência de certificação devem seguir os requisitos estabelecidos no RGCP.
10. ENCERRAMENTO DA CERTIFICAÇÃO
Os critérios para encerramento de certificação devem seguir os requisitos estabelecidos no RGCP.
11. SELO DE IDENTIFICAÇÃO DA CONFORMIDADE

Os critérios para o Selo de Identificação da Conformidade devem seguir os requisitos estabelecidos no RGCP e no Anexo II.
12. AUTORIZAÇÃO PARA O USO DO SELO DE IDENTIFICAÇÃO DA CONFORMIDADE
Os critérios para Autorização para o Uso do Selo de Identificação da Conformidade devem seguir os requisitos estabelecidos no RGCP.
13. RESPONSABILIDADES E OBRIGAÇÕES
Os critérios para responsabilidades e obrigações devem seguir os requisitos estabelecidos no RGCP.

14. DENÚNCIAS, RECLAMAÇÕES E SUGESTÕES
Os critérios para denúncias, reclamações e sugestões devem seguir os requisitos estabelecidos no RGCP.
ANEXO A - MEMORIAL DESCRITIVO
1. O memorial descritivo deve especificar, inequivocamente, cada modelo de produto do fabricante, apresentado pelo solicitante da certificação ao OCP, contendo no mínimo
o seguinte:
a) tipo de solicitação (inicial, alteração do escopo ou recertificação);
b) dados do fabricante (razão social, CNPJ, endereço completo, e-mail, telefone e responsável técnico);
c) descrição técnica do produto (datasheet);
d) código de identificação comercial;
e) nome comercial;
f) data de emissão do memorial descritivo;
g) assinatura do responsável do fornecedor.
dl d f d fíli á idd l é dl i íi
2. O moeo e graeno representante a ama que ser conserao peo OCP o moeo que apresente as seguntes caracterstcas:
) i dditibiã d th ltl d dl df õ fíli tttíti d ditibiã d
a maor curva e sruço e amano aera, quano os moeos e graeno que compem uma mesma ama apresenarem curvas esascas e sruço e
tamanho lateral diferentes e
;
b) forma do material em pó, quando os modelos de grafeno que compõem uma mesma família apresentarem formas diferentes.
ANEXO B PROTOCOLO DE PREPARO DE AMOSTRAS E ANÁLISE DE DADOS
1 Microscopia de força atômica - preparo de amostras e critérios de avaliação
.
Parao preparode amostrasdegrafeno (monocamadabicamada etricamada)o métodode preparodeamostras deveseguir anormaABNT ISO/TS21356-1:2023 Para o
, , .
grafeno de poucas camadas nanoplaquetas de grafeno óxido de grafeno e óxido de grafeno reduzido adotar como referência o Anexo D da ABNT ISO/TS 21356-1: 2023 pela qual 200
, , ,
flocos devem ser medidos em, no mínimo, 5 áreas diferentes para elaborar um gráfico de distribuição de espessura. Os itens a seguir apresentam procedimentos para o preparo de
amostras.
1.1 Grafeno de poucas camadas, nanoplaquetas de grafeno e óxido de grafeno reduzido
Para estes materiais, aplicar o seguinte protocolo de preparo de amostras:

Solução em álcool isopropílico, com concentração de 1 mg/mL em banho ultrassônico (frequência ultrassônica: 40 kHz) por 30 min.
1.1.1 Limpeza do substrato
I. Clivar o substrato de SiO2/Si com aproximadamente 1 cm2 de área;
II. Imergir os substratos em acetona P.A. (puro para análise) e deixar no banho de ultrassom por 30 min;
III. Com o auxílio de uma pinça, retirar os substratos da solução de acetona e colocá-los em uma solução de isopropanol P.A. e novamente deixar em banho de ultrassom por
30 min;
IV. Retirar os substratos da solução de isopropanol e imergi-los em um béquer com água deionizada (ou de pureza similar) para completar a limpeza;
V. Secar o substrato com nitrogênio gasoso de alta pureza (ou similar);
VI. Inspecionar o substrato funcionalizado utilizando um microscópio óptico equipado com uma objetiva de no mínimo 50x. Caso o substrato apresente alguma mancha, sujeira
ou qualquer outro sinal de contaminação, ele deve ser descartado e o procedimento deve ser realizado novamente em um novo substrato.
1.1.2 Funcionalização do substrato
I. Preparar uma solução aquosa de 3-aminopropiltrietoxisilano (APTES) com concentração de 2,5 % em volume. Utilizar preferencialmente água deionizada ou água de teor de
ál l
pureza comparve a ea;
II. Mergulhar o substrato de SiO2/Si na solução utilizando uma pinça. Para isso, pode-se utilizar uma placa de petri de aproximadamente 150 mm de diâmetro. Deve-se aguardar
idt 10 i filiã i d fã d d lt d APTES b fíi
aproxmaamene mn para que ocorra unconazaço por meo a ormaço e uma monocamaa compea e sore a superce;
III Lavar o substrato com áua (deionizada ou de ureza similar) or sucessivas vezes (cinco ou mais)
. g p p ;
IV. Secar a amostra com nitrogênio gasoso ou similar;
V Repetir os passos III e IV de três (03) a cinco (05) vezes;
.
VI Inspecionar o substrato funcionalizado utilizando um microscópio óptico equipado com uma objetiva de no mínimo 50x Caso o substrato apresente alguma mancha sujeira
. . ,
ou qualquer outro sinal de contaminação ele deve ser descartado e o procedimento deve ser realizado novamente em um novo substrato.
,
1.1.3 Deposição sobre substrato
I. Colocar a dispersão de grafeno sob agitação constante em um agitador magnético utilizando uma barra magnética por alguns minutos;
,
II. Utilizando uma micropipeta, pingar uma gota de aproximadamente 40 µL da solução sobre o substrato de Si/ SiO2. Para dispersões da ordem de 1 g/L, deve-se aguardar
de 2 s a 10 s. Para dispersões menos concentradas, da ordem de 0,1 g/L ou menor, deve-se aguardar um tempo de no mínimo 2 min;
III. Mergulhar o substrato em um recipiente de aproximadamente 50 mL contendo água deionizada;
IV. Secar a amostra soprando com nitrogênio gasoso ou similar;
V. Repetir os passos III e IV de três (03) a cinco (05) vezes, de forma a evitar a permanência de um excesso de surfactante ou de outro tipo de aditivo sobre a superfície do
substrato.
1.2 Óxido de grafeno
Para o ensaio de óxido de grafeno, é sugerido o seguinte protocolo de preparo de amostras:
Solução em álcool isopropílico ou água, com concentração de 1 mg/mL em banho ultrassônico (frequência ultrassônica: 40 kHz) por 30 min.
1.2.1 Limpeza do substrato
I. Clivar o substrato de Si com aproximadamente 1 cm2 de área;
II. Imergir os substratos em tricloroetileno P.A. e deixar em banho de ultrassom por 10 min;
III. Transferir os substratos para acetona P.A. e repetir o procedimento de limpeza por 10 min;
IV. Transferir os substratos para álcool etílico P.A. e realizar limpeza em banho ultrassônico por 10 min;
V. Realizar todas as etapas de limpeza em capela com exaustão, à temperatura ambiente;
VI. Secar o substrato com nitrogênio gasoso de alta pureza (ou similar);
VII Sb b à iã ôi 15 i à bi
. umeter o sustrato exposço ao ozno por mn, temperatura amente;
VIII Ii btt tilid iói óti id bti d íi 50 C btt t h i l t il d
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. nspeconar o susrao uzano mcroscpo pco equpao com ojeva e no mnmo x. aso o susrao apresene mancas, sujera ou quaquer ouro sna e
contaminação, ele deve ser descartado e o procedimento deve ser realizado novamente.